2235美爾森石墨2235MERSEN石墨石墨件

日本東海石墨（TOKAI）：G330，G347，G348，G458，G467，G520，G530,534，G540，HK-1,HK-2,HK-3,HK-75,HK-15。

日本東洋石墨（TOYO）：IG-11，IG-12，IG-15，IG-45，IG-56，IG-70，IG-110，IG-120，IG-210，IG-310，ISEM-1，ISEM-2，ISEM-3，ISEM-8，ISO-63，ISO-66，ISO-68，ISO-88，TTK-4，TTK-5，TTK-8，TTK-9，SIC-6，SIC-12，TTK-50，HPG-51，HPG-53，HPG-59，HPG-83，含銅石墨TTK-5C，含銅ISEM-41C，KC-6709，KC-5709，KC-6707，IKC-6809，KC-67097，KC-360，KC-570，KC-670，KC-673，KC-830K，X-11，X-72，X-78，X-91，X-94，BX-388，T-301，124，127。

德國(guó)西格里石墨（SGL）：R8500，R8510，R8710，R8650，R8340，R6510，R6500，R6300，EK24，EK40，EK60，浸漬樹(shù)脂EK2200，EK2201，EK2203，EK2240，EK2241，EK2243浸漬銻EK3205，EK3235，EK3245，EK3105，EK305。

美國(guó)步高石墨（POCO）：EDM-150，EDM-200，EDM-1，EDM-3，EDM-2，EDM-AF5，含銅石墨EDM-C3，含銅EDM-C200。

美國(guó)精帝石墨：ER9050，ER9160，ER9200，ER9220，R9300。

法國(guó)美爾森石墨（MERSEN)：E+20，E+25，E+18，E+40，E+50，E+35，DS-4，2129，2020，2124，2715，2720，2333。

日本揖斐電石墨（IBIDEN）：XL-5，EX-70，EX-60，EX-50，EX-4，EX-3

新日本碳素石墨（NTC）：SED-40S，SED-65，SED-70，SED-75，SED-90，SED-T1。

美國(guó)優(yōu)卡石墨：E-850，E-888，E-900，E-940，E-950。

國(guó)內(nèi)：HND-T4，HND-T6，HND-T9，HND-T11，F(xiàn)5585，F(xiàn)5587，F(xiàn)5590，HND-T20，HND-T30，HND-T40，HND-T50，HND-T60，HND-T70，HND-T80，HND-T90，HND-T100，WX-7，WX-8，兩浸三焙，三浸四焙，四浸五焙，模壓高純石墨，等靜壓三高石墨，中粗顆粒石墨材料。

新日本科技炭素NTC生產(chǎn)的等靜壓石墨、模壓石墨、擠壓石墨等特種石墨制品。這些石墨具有結(jié)構(gòu)均勻、理化性能好等優(yōu)點(diǎn)，在特種石墨材料市場(chǎng)中屬于中產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于冶金、化工、半導(dǎo)體、能源、環(huán)保、交通運(yùn)輸、機(jī)械工程、玻璃陶瓷等行業(yè)。另可供硬碳?xì)郑卉浱細(xì)帧⑻糠喜牧稀?/p>

德國(guó)SGL (西格里) 石墨/碳石墨素材

標(biāo)準(zhǔn)材質(zhì)

含浸: Resin / Antimony / Salt

碳石墨: EK20 / EK2200 / EK 2201 / EK2203 / EK 2209 / EK3205 / EK2230 / EK2239 / EK3235 / EK24 / EK2240 / EK2241 / EK2243 / EK3245 / EK25 / EK2250 / EK3255

石墨: EK40 / EK200 / EK201 / EK203 / EK204 / EK305 / V1626

Resin Bonded Graphite: EK60 / V1754 / V1771 / V1352 / V1640

高純石墨一般指含碳量在99.99%以上的石 墨，在組織結(jié)構(gòu)上可分為粗顆粒結(jié)構(gòu)、細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)和超細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)三類，高純石墨大量用于直拉單晶硅爐中。集成電路的基礎(chǔ)材料主要是硅單晶芯片，目前硅單晶的成長(zhǎng)工藝主要采用直拉法，其他方法還有磁場(chǎng)直拉法、區(qū)域法以及雙坩堝拉晶法，直拉單晶硅爐中的石墨件是消耗品，采用高純石墨材料加工成直拉單晶硅爐的加熱系統(tǒng)。

高純石墨另一重要用途是加工成各類?ài)釄澹糜谏a(chǎn)貴金屬、稀有金屬或高純金屬、非金屬材料。光譜分析用石墨電極也是一種高純石墨，可用于除碳元素以外的所有元素的光譜化學(xué)分析，光譜分析用石墨電極用擠壓方法成型。成品的雜質(zhì)元素含量應(yīng)不大于6*10-5。在光譜分析中制備標(biāo)準(zhǔn)樣品和用化學(xué)方法捕集雜質(zhì)時(shí)需用光譜純炭粉或光譜純石墨粉，這兩種高純材料對(duì)雜質(zhì)含量的要求都是在6*10-5；在某些用途方面，需要含碳量達(dá)到99.9995%，總灰分含量小于5*10-6。高純石墨的成型方法有擠壓成型、模壓成型及等靜壓成型三種。

高純石墨一般指含碳量在99.99%以上的石 墨，在組織結(jié)構(gòu)上可分為粗顆粒結(jié)構(gòu)、細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)和超細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)三類，高純石墨大量用于直拉單晶硅爐中。集成電路的基礎(chǔ)材料主要是硅單晶芯片，目前硅單晶的成長(zhǎng)工藝主要采用直拉法，其他方法還有磁場(chǎng)直拉法、區(qū)域法以及雙坩堝拉晶法，直拉單晶硅爐中的石墨件是消耗品，采用高純石墨材料加工成直拉單晶硅爐的加熱系統(tǒng)。

高純石墨另一重要用途是加工成各類?ài)釄澹糜谏a(chǎn)貴金屬、稀有金屬或高純金屬、非金屬材料。光譜分析用石墨電極也是一種高純石墨，可用于除碳元素以外的所有元素的光譜化學(xué)分析，光譜分析用石墨電極用擠壓方法成型。成品的雜質(zhì)元素含量應(yīng)不大于6*10-5。在光譜分析中制備標(biāo)準(zhǔn)樣品和用化學(xué)方法捕集雜質(zhì)時(shí)需用光譜純炭粉或光譜純石墨粉，這兩種高純材料對(duì)雜質(zhì)含量的要求都是在6*10-5；在某些用途方面，需要含碳量達(dá)到99.9995%，總灰分含量小于5*10-6。高純石墨的成型方法有擠壓成型、模壓成型及等靜壓成型三種。